起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培壟規(guī)格對根區(qū)溫度和甜椒生長的影響.pdf

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起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培壟規(guī)格對根區(qū)溫度和甜椒生長的影響.pdf

<p>為了明確起壟內(nèi)嵌式基質(zhì)栽培不同壟規(guī)格的溫熱性能,在日光溫室中進行大田試驗,以土壟(T0)為對照,設置了窄壟(T1)、窄壟黑膜(T2)、矮壟(T3)、墊高壟(T4)和標準壟(T5)5種處理,探究栽培壟高度、寬度和覆膜類型對根區(qū)溫熱以及甜椒生長的影響。試驗結(jié)果表明:黑色地膜的增溫效果較差,晝夜平均溫度較白色地膜低1.0左右;高度對根區(qū)溫度變化的影響表現(xiàn)為:白天高溫時段高度越高溫度越高,夜間則相反;寬度對根區(qū)溫度變化的影響表現(xiàn)為:白天時寬度越寬根區(qū)溫度越低,夜間相反。雖然各處理根區(qū)溫度日變化存在一定的差異,但晝夜平均溫度均在17.519.0,彼此間溫差在1.0左右。栽培壟的高度、寬度和覆膜類.</p>

注意事項

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